• 北京薄膜技术如何突破光学应用瓶颈?

    在光电显示领域,高折射率光学薄膜的制备始终面临介电损耗与机械强度的平衡难题。中膜(北京)新型薄膜有限公司采用磁控溅射与化学气相沉积复合工艺,成功开发出具有梯度折射结构的纳米级复合膜层。该技术通过分子束外延(mbe)在基底表面构建非晶-微晶过渡相,实现透光率达92.7%的同时保持8h铅笔硬度。

    功能性涂层的关键突破
    针对防眩光薄膜的漫反射调控,研发团队创新性地运用反应离子刻蚀(rie)技术,在

    膜技前沿

  • 高阻隔薄膜为何成为食品包装首选材料?

    在功能性膜材领域,气相沉积技术的突破性进展正推动包装行业变革。中膜(北京)新型薄膜有限公司通过磁控溅射工艺开发的纳米复合阻隔膜,其氧透过率(otr)可低至0.5cm³/m²·day·atm,远超传统铝箔复合材料的防护性能。

    多层共挤技术的革新应用
    针对生鲜冷链包装的特殊需求,我们采用五层共挤流延工艺制备的evoh基阻隔膜,在-40℃低温环境下仍能保持2.3n/15mm的封合强度。这种具有梯度结晶

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  • 为何北京薄膜制造企业更青睐纳米级复合工艺?

    功能薄膜材料的微观结构革命
    在功能性高分子材料领域,气相沉积技术正推动着北京薄膜产业的技术迭代。中膜(北京)新型薄膜有限公司率先将等离子体增强化学气相沉积(pecvd)与磁控溅射镀膜相结合,成功开发出具有梯度折射率分布的纳米叠层结构。这种创新工艺使聚酰亚胺基材表面形成0.8-1.2nm的原子层沉积(ald)界面,显著提升薄膜制品的耐候性和阻隔性能。

    纳米级复合薄膜的性能优势

    透光率提升至92.

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