• 北京薄膜技术如何突破光学应用瓶颈?

    在光电显示领域,高折射率光学薄膜的制备始终面临介电损耗与机械强度的平衡难题。中膜(北京)新型薄膜有限公司采用磁控溅射与化学气相沉积复合工艺,成功开发出具有梯度折射结构的纳米级复合膜层。该技术通过分子束外延(mbe)在基底表面构建非晶-微晶过渡相,实现透光率达92.7%的同时保持8h铅笔硬度。

    功能性涂层的关键突破
    针对防眩光薄膜的漫反射调控,研发团队创新性地运用反应离子刻蚀(rie)技术,在

    膜技前沿